接连不断的消息，让ASML有点“扛不住了”？

2020年的67.98亿欧元。在忒麦尔业绩利息双增长的完全，忒麦尔有这样融洽的银行贷款坚实，亦非就肩扛不进到这三个坏通告的挤压。

虽然忒麦尔能肩扛得进到，但是并不代表对忒麦尔自身就无法有挤压。上周12年初份，忒麦尔官方网站声称，小型化，Na值为0.55的非常高科技的新型EUV光刻机年末在2023年意味着量产。

那么，随着忒麦尔这台全新的EUV光刻机上到，今后是不是有希望能大大减缓这三个坏通告对忒麦尔的不良后果呢？

小型化EUV光刻机能否大大减缓忒麦尔的不良后果？

首先，以后央处理器高科技元件工艺技术的的发展

实际上，怕无法，年初份3年初2日，英特尔、宏碁、高通等等世界性十大知名企业成立了UCle三巨头，也就是小以后央处理器三巨头，确立确立的Chiplet互联标准，的发展高科技元件。另外，在前不久，爱尔兰AI以后央处理器创企Graphcore推出了一款IPU厂商Bow，这枚IPU以后央处理器采用的是宏碁的3D元件工艺技术，在完全不变动软件和以后央处理器内核的完全，不仅将运算速度提升了40%，更是减缓了16%的功耗。

从这些电视新闻以后，我们不难看出，而今世界性在高科技元件工艺技术特别争得了不少的超越和成绩，在今后，EUV光刻机的小剧场也许但会越发小，如此，纵然是小型化EUV光刻机，怕也无法大大减缓忒麦尔而今的不良后果。

其次，不能不EUV核心应用争得超越

在EUV光刻机层面，忒麦尔的竞争者阻碍也是越发大，就拿不能不来说吧，就在上周6年初28日当晚，不能不除了提用电用生产线和测试承托能力的高科技反射光应用生产线和测试平台年末转入试运行。

而且还在6年初28日当晚傍晚，不能不以后科科仪控股有限公司生产线的直线式劳埃镜面反光设备及纳米展示出镜反光设备年末开工。这些都是EUV光刻机的核心应用，不能不争得这样的超越，今后亦非就不必意味着EUV光刻机的国产化，在忒麦尔EUV光刻机层面有这样强竞争者对手的自已，忒麦尔就让通过小型化EUV光刻机据称自己躯体的灰尘，怕还容无法这么容易。

回顾

坏通告接踵而来，忒麦尔都因挤压，就迄今为止而言，忒麦尔就让肩扛进到挤压，问题有所，但是，在今后的往常里，要是忒麦尔不决定消除这些坏通告，不决定走出坏通告的泥潭，怕今后，忒麦尔的的发展之路但会不怎么好走。

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